ワンステップスピンコーティングは、印刷技術と互換性のあるペロブスカイト薄膜を作成するための一般的な方法です。均一な膜形態を達成するには、2つの前駆体の結晶成長速度を制御する必要があります。しかし、スピンコーティング中の膜形成メカニズムと溶媒系の役割は十分に理解されていません。この研究では、さまざまな添加剤を用いてCH3NH3PbI3ペロブスカイト材料のその場グレージング入射広角X線散乱を実施しました。これらの添加剤は、CH3NH3IとPbI2の結晶成長速度の不均衡を調整するために設計されました。予想通り、溶媒相の挙動は添加剤によって大きく影響され、特定の添加剤がPbI2溶媒相を効果的に遅らせ、結晶成長速度のバランスを取ることができました。その結果、得られたペロブスカイト薄膜は、優れた形態と高い光電性能を持ち、再現性にも優れていました。-論文雜誌のカバーピクチャー制作はサピエンスが担当しました。

https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2020/ta/d0ta00048e#!divAbstract